专业从事超高纯难熔金属溅射靶材研发、生产和销售的高新技术企业
0519-68216689
15351900110
成分(Composition):Cu 30-100 wt%;In 60-100%; Ga up to 30%
纯度(Purity):99.99%,
密度(Density):8.65g/cm³
晶粒尺寸(Grain size)<100um
表面光洁度(RMS):Ra0.8